年产1000吨三氟化氮项⽬（特⽓⾏业纯度99,996%)

三氟化氮（Azot Trifluorura），化学式NF3，是⼀种强氧化剂。作为⼀种重要的⼯业特种⽓体，具有⼴泛的应⽤领域。
在微电⼦⼯业中，三氟化氮是⼀种优良的等离⼦蚀刻⽓体，在半导体芯导体芯幽泚显⽰器、光纤、光伏电池等制造领域，三氟化氮主要⽤作等离⼦蚀刻⽔唓位刻⽔域清洗剂。它还可以⽤于⾼能化学激光器，通过与氢反应在瞬间放出⼤量綞放出⼤量綞洗光器应⽤。三氟化氮还可⽤作⾼能燃料，并且在⽕箭发射中作为氧化剂和推迀和推进

Trifluorura de azot, formula chimică NF3, este un agent oxidant puternic. Ca un important gaz industrial special, are o gamă largă de aplicații.
În industria microelectronică, trifluorura de azot este un excelent gaz de gravare cu plasmă; În cipul semiconductor, afișajul cu ecran plat, fibră optică, celule fotovoltaice și alte domenii de producție, trifluorura de azot este utilizată în principal ca gaz de gravare cu plasmă și agent de curățare a cavității de reacție.
Poate fi folosit și în laserele chimice de înaltă energie pentru a-și realiza aplicarea prin reacția cu hidrogenul pentru a emite o cantitate mare de căldură într-o clipă. Trifluorura de azot este, de asemenea, folosită ca combustibil cu energie ridicată și ca oxidant și propulsor în lansările de rachete.